Aguascalientes, Ags.- Por segunda ocasión, alumnos de la carrera de Ingeniería Industrial y de Sistemas (IIS) del Tecnológico de Monterrey Campus Aguascalientes participaron en un “Taller Vertical”.
En esta ocasión llevó por título “Eaton Costo Out Challenge” y se realizó en la empresa Eaton Industries, ubicada en Aguascalientes.
Este segundo taller tuvo como objetivo integrar a los estudiantes de todos los semestres de ISS para desarrollar propuestas de alto impacto enfocadas a seis áreas de oportunidad desde el enfoque de Reducción de Costos (Cost Out): energía eléctrica, esquema de turnos, cultura cost out, gemba general, manejo de material y scrap.
El equipo ganador, integrado por Armando Delgado Galván, Ivana López Velarde, Ricardo Mata Villegas, Daniel Ochoa Sifuentes, César Díaz Alonso, Jesús Ernesto López, Luis Alberto Díaz y Marisol Herrera Simoni, presentó el proyecto “Esquema de turnos”. Tuvo como asesores al MC Armando Delgado Pedroza, profesor del Campus, así como por el ingeniero Julio Hernández Luévano de la empresa EMBA Group.
Los directivos de la empresa Eaton se mostraron complacidos con las propuestas desarrolladas por los estudiantes, quienes fueron asesorados por el equipo de profesores del Campus y el coach de Eaton, el ingeniero Alfredo Córdova Sánchez.
También participaron de manera muy destacada dos estudiantes de preparatoria, Leonardo Vargas Talamantes y José Antonio Feregrino Lomelín, quienes ya están preinscritos en la carrera de Ingeniería Industrial y de Sistemas.
El éxito del Taller Vertical fue reconocido por el director general del Tecnológico de Monterrey Campus Aguascalientes, Daniel Mora Máynez, y por Antonio Ruíz de Luna, director de la División de Profesional, quienes felicitaron a los organizadores del evento, en especial a Roberto Trujillo Ramírez, ya que los alumnos adquirieron valiosos conocimientos y las expectativas del personal de la empresa Eaton fueron rebasadas, por lo que exhortaron a seguir trabajando colaborativamente para realizar proyectos con cada vez más mayor impacto y presencia.
